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全譜直讀光譜儀

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號:CKQEM-034

品       牌:其他品牌

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:上海市

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更新時間:2024-09-06 12:43:14瀏覽次數(shù):2931次

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應(yīng)用領(lǐng)域 電子,綜合
全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計和制造工藝技術(shù),采用全數(shù)字化技術(shù),替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術(shù),采用真空光室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測器,高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),使儀器具有較高的性能、較低檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。

全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計和制造工藝技術(shù),采用全數(shù)字化技術(shù),替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術(shù),采用真空光室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測器,高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),使儀器具有較高的性能、較低檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。

  全譜直讀光譜儀 應(yīng)用領(lǐng)域:冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

   檢測基體:鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

   主要技術(shù)參數(shù):

   

      波長范圍:170nm~580nm

                   焦距:   400mm

             探測器:高性能CCD陣列

             光源類型:數(shù)字光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS

             放電頻率:100-1000Hz

             放電電流:400A

             工作電源:220VAC 50/60Hz

             儀器尺寸:720*860*500

             儀器重量:約100kg(不含真空系統(tǒng))

             檢測時間:依據(jù)樣品類型而定,一般25S左右

             電極:鎢材噴射電

             光學(xué)恒溫:34℃± 0.3

             氬氣要求:99.999

             氬氣進(jìn)口壓力:0.5MPa

             氬氣流量:激發(fā)流量約3.5L/min

             工作溫度:10℃~35

             工作濕度:20%~85

             分析間隙:真空軟件自動控制、監(jiān)測

   技術(shù)特點:

1、高性能光學(xué)系統(tǒng)

1》光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室,實現(xiàn)光路  直通,有效的降低光路損耗;

2》高性能光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計及采用高精度的光學(xué)元件可精確測定非金屬元素中C、P、S、N以及各種元素含量;  

3》測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)及長期穩(wěn)定性。

2、自動光路校準(zhǔn)

1》自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作;

2》儀器自動識別特定譜線與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定。

3、單板式透鏡設(shè)計

1》真空光學(xué)系統(tǒng)采用*的入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作,光學(xué)透鏡采用單板式透鏡結(jié)構(gòu),日常清洗維護(hù)方便快捷。

2》在日常工作中儀器無需維護(hù),也沒有消耗品及更換零部件。

4、真空室一體化

1》*的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半。

2》真空室一體化設(shè)計及高精密的加工,使真空保持的更加持久。

5、真空防返油技術(shù)

1》多級隔離的真空防返油技術(shù),采用真空壓緊、擋板閥保證真空泵不工作時間真空光室與真空*隔離。

2》中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進(jìn)入真空室,保障CCD檢測器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。

6、開放式激發(fā)臺

1》開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設(shè)計,以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析。

2》配合使用小樣品夾具,線材分析可達(dá)到1.5mm

7、噴射電極技術(shù):

1》采用噴射電極技術(shù),使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度。

2》配上*氬氣氣路設(shè)計,大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。

8、集成氣路模塊

1》激發(fā)臺采用散熱性能好的合金材料制作,不僅堅固、耐用而且清潔方便。

2》供氣系統(tǒng)采用集成氣路模塊,電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

9、全數(shù)字化激發(fā)光源:

1》全數(shù)字激發(fā)光源,采用等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。

2》全數(shù)字激發(fā)脈沖,確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出。

3》滿足各種不同材料的激發(fā)要求。

10、高速數(shù)據(jù)采集:

1》儀器采用高性能CCD器件,紫外鍍膜技術(shù)及高性能FPGA、DSP及ARM處理器。
《2》具有高速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。

11、以太數(shù)據(jù)傳輸:

《1》計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時計算機和打印機*外置,方便升級和更換。

2》完備的網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)。

3》可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài),多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。

12、預(yù)制工作曲線:

1》根據(jù)元素和材質(zhì)對應(yīng)的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時已經(jīng)調(diào)節(jié)好,根據(jù)分析程序可自動選擇測試條件。

2》長期以來工廠積累了大量的經(jīng)驗以及全面的標(biāo)樣庫,儀器出廠時工廠預(yù)制工作曲線,使用戶拿到儀器后可投入使用。

3》技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍(并可根據(jù)用戶提供標(biāo)樣免費繪制或延長工作曲線)。

13、分析速度快捷:

1》分析速度快捷,為客戶節(jié)約了寶貴的時間,20秒內(nèi)可測完所有通道的元素成分。

2》針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及測量時間,使儀器短時間達(dá)到分析效果。

14、多基體分析

1》光路設(shè)計采用羅欄園結(jié)構(gòu),CCD上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設(shè)施,即可實現(xiàn)多基體分析。

2》便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素。

3》相比光電倍(PMT)光譜儀可大大減低使用成本及使用范圍。

















































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